В Китае создают фоточувствительный материал для 7-нм техпроцесса

Китайские производители получат возможность выпускать высококачественный фоторезист отечественной разработки. Это материал, при помощи которого на кремниевые кристаллы наносятся рисунки микросхем. В данном случае речь идет о технологиях 7-нм.

Как сообщают СМИ, данная новость еще раз подтверждает, что китайская промышленность намерена полностью перейти на отечественные материалы и избавиться от зависимости от импорта. Очевидно, к этому подталкивают торговые войны с Америкой.

Новый фоторезист для китайцев является большим шагом вперед, отмечают эксперты. Ранее в стране могли производить аналогичный материал, но он позволял работать в диапазоне от 436 до 365 нм. До сих пор пять производителей из США и Японии обеспечивали мировые потребности в фоторезисте на 85%.

загрузка...

Коротко

Показать все новости